1) chemically amplified photo resist
化学增幅抗蚀
2) chemical amplification
化学增幅抗蚀剂
3) chemically amplified photoresist
化学增幅型抗蚀剂
1.
The development of research for acid proliferation generator (APG) was reviewed and some kinds of APG having application prospect and their reaction mechanism were introduced in detail;the usage of APG in chemically amplified photoresist and UV solidification materials,and CTP were also discussed in this review.
讨论了酸增殖剂在化学增幅型抗蚀剂体系、UV紫外光固化材料、CTP制版中的应用 。
4) chemical amplification
化学增幅
1.
Deep UV lithography operating at 248 nm with use of chemical amplification resists has finally become a production technology.
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步。
5) chemically amplified
化学增幅
1.
A new kind of chemically amplified negative photoresist without crosslinking agent was studied using this co-polymer as the base resin, which was developable in harmless NaOH-.
本文引入单体MAGME合成了具有自交联作用的MAGME、苯乙烯和N ( 4 羟基苯基 )马来酰亚胺的共聚物 ,并以该聚合物为基体树脂 ,研制了一种新型的水显影化学增幅型负性抗蚀剂 ,并初步研究了其光刻工艺条件 。
2.
Studies on water-soluble photoresists during the last decade have been summarized in two parts: traditional photochemical reaction type and chemically amplified type.
本文按传统光化学反应型和化学增幅型两种类型对近10年水溶性光致抗蚀剂的发展状况做了分类总结,并重点介绍了成像反应原理和各体系的优缺点。
6) chemically amplified resist (CAR)
化学增强保护层，化学增强抗蚀剂
补充资料：光致抗蚀剂及其配套化学品
分子式：
CAS号：
性质：光致抗蚀剂又称光刻胶，它是一种光敏高分子聚合物。当它受到光能照射时，分子内部发生聚合或分解反应，电子工业在微细加工中利用这种特性能得到所需的几何图形。光刻胶具有光化学、抗蚀、一定的机械及耐热特性，使用范围已愈来愈广，除在电子工业使用外，还能用于印刷工业中凸版的刻蚀、电镀工业中的保护层、精密仪器加工中的光栅、应力片、钟表加工等。一般光刻胶由成膜材料、光敏材料、溶剂及添加剂等组成，光刻胶可按显影后在光刻胶涂膜上所形成的图形与掩模图形关系分为正负型两种，与掩模图形相合的为正性光刻胶，反之为负性光刻胶。又可按曝光光源类型分成紫外光刻胶及辐射光刻胶。在光刻过程中所使用的显影剂、去膜剂、漂洗剂及稀释剂统称光刻胶配套化学品。
CAS号：
性质：光致抗蚀剂又称光刻胶，它是一种光敏高分子聚合物。当它受到光能照射时，分子内部发生聚合或分解反应，电子工业在微细加工中利用这种特性能得到所需的几何图形。光刻胶具有光化学、抗蚀、一定的机械及耐热特性，使用范围已愈来愈广，除在电子工业使用外，还能用于印刷工业中凸版的刻蚀、电镀工业中的保护层、精密仪器加工中的光栅、应力片、钟表加工等。一般光刻胶由成膜材料、光敏材料、溶剂及添加剂等组成，光刻胶可按显影后在光刻胶涂膜上所形成的图形与掩模图形关系分为正负型两种，与掩模图形相合的为正性光刻胶，反之为负性光刻胶。又可按曝光光源类型分成紫外光刻胶及辐射光刻胶。在光刻过程中所使用的显影剂、去膜剂、漂洗剂及稀释剂统称光刻胶配套化学品。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条