1) co-sputtered thin films
共溅射薄膜
2) MoS_2 based cosputtered films
MoS_2基共溅射薄膜
3) sputtering thin films
溅射薄膜
1.
In this paper, the chlorobenzene treatment was adopted in lift-off process of Al and Au sputtering thin films with thickness of 0.
0UM的AL、AU溅射薄膜进行了剥离,分析了光刻胶厚度和薄膜厚度与剥离图形的关系,对剥离过程中氯苯浸泡工艺以及溅射工艺对剥离图形的影响进行了研究,并在2。
4) thin film sputtering
薄膜溅射
5) RF Sputtering InSb Film
溅射InSb薄膜
6) sputtering Al films
溅射Al薄膜
补充资料：不共中不共变
【不共中不共变】
谓如眼等五根，唯自己第八识中最初一念，托父母遗体时变现，名不共；出胎之后，唯自己受用，复名不共。如眼识，惟依眼根而发；乃至身识，唯依身根而发，不相混杂，是为不共中不共变。
谓如眼等五根，唯自己第八识中最初一念，托父母遗体时变现，名不共；出胎之后，唯自己受用，复名不共。如眼识，惟依眼根而发；乃至身识，唯依身根而发，不相混杂，是为不共中不共变。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条