1) proton induced X-ray emission (PIXE)
质子激发X射线荧光分析(PIXE)
2) micro proton induced X ray emission(μ PIXE)
微米级质子束激发的X射线荧光分析(微束PIXE)
3) (PIXE)
质子激发X荧光分析法(PIXE)
4) Proton induced X-ray emission(PIXE)
质子X射线荧光光谱(PIXE)
5) proton induced X-ray emission
质子激发X射线荧光分析
1.
The seven main chemical components of the body and glaze samples of 84 RuGuan porcelains from Qingliangsi kiln and JunGuan porcelains from Juntai kiln are determined by the proton induced X-ray emission(PIXE).
将84个清凉寺窑汝官瓷和钧台窑钧官瓷样品进行质子激发X射线荧光分析,得到每个样品胎和釉的7种主量化学组分。
6) PIXE
质子激发X荧光分析
1.
The PIXE results of the standard samples of particulates are reported.
报告了用质子激发X荧光分析 (PIXE)对国际原子能结构组织的实验室分析比对的颗粒物标准样品的测量结果 ,讨论了此结果和各实验室的PIXE和中子活化分析 (NAA)测量结果与用不同方法测定值的平均值、参考值的比较 ,表明对颗粒物样品分析 ,PIXE的准确度很好 。
补充资料：质子激发X射线荧光分析
利用原子受质子激发后产生的特征 X射线的能量和强度来进行物质定性和定量分析的方法。简称质子 X射线荧光分析，英文缩写为PIXE。
质子X射线荧光分析是20世纪 70年代发展起来的一种多元素微量分析技术，其分析灵敏度可达10-16克，相对灵敏度可达10-6～10-7克／克。原则上可分析原子序数大于13的各种元素。80年代前期，可实际测定的元素有：自铝至铈（氩、氪、氙、锝、钯和碲除外）、自钽至铋（铼、锇、铱除外）、钍和铀，有的设备还可分析镁和硼，共可测52种元素。
基本原理是用高速质子照射样品，质子与样品中的原子发生库仑散射。原子内层电子按一定几率被撞出内壳层,留下空穴,较外层电子向这个空穴跃迁时发射出特征X射线。用探测仪器探测和记录这些特征X射线谱，根据特征 X射线的能量可定性地判断样品中所含元素的种类，根据谱线的强度可计算出所测元素的含量。
质子X射线荧光分析的主要实验装置包括:①加速器，一般用质子静电加速器，选用能量为1～3兆电子伏的质子,在此能量范围内，质子激发X射线的产额高，灵敏度高；质子的能量再高时，将会引起许多核反应，使本底增大；能量再低时，质子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或称散射室）,是分析样品放置处,其中有特制的样品架，并且包括质子束准直系统、均束装置和集束装置，有探测窗连接探测器，靶室和真空系统相连接。③X射线能谱分析仪,常用硅（锂）能谱仪。在质子束照射下,样品发射出的特征X射线穿过铍窗、空气层和吸收片，进入硅（锂）能谱分析仪。这种谱仪在一次测量中可以记录样品中所有可分析元素的特征 X射线谱，配合电子计算机，可进行在线分析，直接给出各元素的含量。
质子 X射线荧光分析一般在真空中照射样品（称作真空分析或内束技术），但也发展了一种非真空分析技术（或称外束技术），即将质子束从真空室中引出，在空气（或氦气）中轰击样品。真空分析可能引起厚样品积累正电荷（质子电荷）而吸引周围电子，造成本底增高。非真空分析由于样品周围空气电离而有导电性，可消除电荷积累;空气有冷却作用,可使样品不易损坏。此外，在真空室外更换样品比较方便，液体或放气样品不受限制，样品尺寸也可不受靶室的限制。但是空气中的氩和氪对某些轻元素的分析有干扰作用。
在质子X射线荧光分析中所测得的X射线谱是由连续本底谱和特征 X射线谱合成的叠加谱。样品中一般含有多种元素，各元素都发射一组特征X射线谱,能量相同或相近的谱峰叠加在一起，直观辨认谱峰相当困难，需要通过复杂的数学处理来分解 X射线谱。解谱包括本底的扣除、谱的平滑处理、找峰和定峰位、求峰的半高宽和峰面积。谱的数学解法已研究出多种，并已编制成计算机程序。从解 X射线谱中可得到某一待测元素的特征谱峰的面积（峰计数），根据峰面积可计算出该元素的含量。这种直接计算的办法需要对探测系统标定探测效率、确定探头对靶子所张立体角、测定射到靶子上的质子数等。
在实际分析工作中多采用相对测定法，即将试样和标样同时分析比较,设试样和标样中待测元素的特征X射线谱峰计数为NX和NS，含量为WX和WS，则得：
WX＝NXWS/NS
参考书目
任炽刚等著:《质子X荧光分析和质子显微镜》，原子能出版社，北京，1981。
S.Johansson and T.Johansson,Analytical Application of Particle Induced X-Ray Emission,Nuclear Instruments and Methods,Vol.137,pp.473～516,1976.
质子X射线荧光分析是20世纪 70年代发展起来的一种多元素微量分析技术，其分析灵敏度可达10-16克，相对灵敏度可达10-6～10-7克／克。原则上可分析原子序数大于13的各种元素。80年代前期，可实际测定的元素有：自铝至铈（氩、氪、氙、锝、钯和碲除外）、自钽至铋（铼、锇、铱除外）、钍和铀，有的设备还可分析镁和硼，共可测52种元素。
基本原理是用高速质子照射样品，质子与样品中的原子发生库仑散射。原子内层电子按一定几率被撞出内壳层,留下空穴,较外层电子向这个空穴跃迁时发射出特征X射线。用探测仪器探测和记录这些特征X射线谱，根据特征 X射线的能量可定性地判断样品中所含元素的种类，根据谱线的强度可计算出所测元素的含量。
质子X射线荧光分析的主要实验装置包括:①加速器，一般用质子静电加速器，选用能量为1～3兆电子伏的质子,在此能量范围内，质子激发X射线的产额高，灵敏度高；质子的能量再高时，将会引起许多核反应，使本底增大；能量再低时，质子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或称散射室）,是分析样品放置处,其中有特制的样品架，并且包括质子束准直系统、均束装置和集束装置，有探测窗连接探测器，靶室和真空系统相连接。③X射线能谱分析仪,常用硅（锂）能谱仪。在质子束照射下,样品发射出的特征X射线穿过铍窗、空气层和吸收片，进入硅（锂）能谱分析仪。这种谱仪在一次测量中可以记录样品中所有可分析元素的特征 X射线谱，配合电子计算机，可进行在线分析，直接给出各元素的含量。
质子 X射线荧光分析一般在真空中照射样品（称作真空分析或内束技术），但也发展了一种非真空分析技术（或称外束技术），即将质子束从真空室中引出，在空气（或氦气）中轰击样品。真空分析可能引起厚样品积累正电荷（质子电荷）而吸引周围电子，造成本底增高。非真空分析由于样品周围空气电离而有导电性，可消除电荷积累;空气有冷却作用,可使样品不易损坏。此外，在真空室外更换样品比较方便，液体或放气样品不受限制，样品尺寸也可不受靶室的限制。但是空气中的氩和氪对某些轻元素的分析有干扰作用。
在质子X射线荧光分析中所测得的X射线谱是由连续本底谱和特征 X射线谱合成的叠加谱。样品中一般含有多种元素，各元素都发射一组特征X射线谱,能量相同或相近的谱峰叠加在一起，直观辨认谱峰相当困难，需要通过复杂的数学处理来分解 X射线谱。解谱包括本底的扣除、谱的平滑处理、找峰和定峰位、求峰的半高宽和峰面积。谱的数学解法已研究出多种，并已编制成计算机程序。从解 X射线谱中可得到某一待测元素的特征谱峰的面积（峰计数），根据峰面积可计算出该元素的含量。这种直接计算的办法需要对探测系统标定探测效率、确定探头对靶子所张立体角、测定射到靶子上的质子数等。
在实际分析工作中多采用相对测定法，即将试样和标样同时分析比较,设试样和标样中待测元素的特征X射线谱峰计数为NX和NS，含量为WX和WS，则得：
WX＝NXWS/NS
参考书目
任炽刚等著:《质子X荧光分析和质子显微镜》，原子能出版社，北京，1981。
S.Johansson and T.Johansson,Analytical Application of Particle Induced X-Ray Emission,Nuclear Instruments and Methods,Vol.137,pp.473～516,1976.
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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