1) ion plating
离子镀
1.
Effect of Cr element on (Ti,Cr) N composite films deposited by multi-arc ion plating;
Cr对多弧离子镀TiN及其复合膜(Ti,Cr)N性能的影响
2.
Influence of Magnetic Field and N_2 Partial Pressure on TiN coating of Ion Plating with Multi-Arc Source;
电磁场氮分压等对多弧离子镀TiN的影响
3.
The industrial progress of ion plating hard films on tools and dies on the Pearl River Delta;
珠三角地区离子镀工模具硬质膜产业的技术进步
2) ion-plating
离子镀
1.
With Ion-plating method, TiN coatings were prepared on Cr12MoV surface.
运用离子镀的方法,在Cr12MoV模具钢表面制备了氮化钛涂层,用磨损试验机进行了涂层的磨损试验和磨损寿命试验,测量了涂层硬度,分析了镀膜工艺参数对涂层耐磨性的影响,发现基体温度和氮气分压是主要影响因素。
2.
1Cr18Ni9Ti stainless steel thin films were deposited onto the surface of austenitic Fe-Mn base alloys by ion-plating.
在奥氏体Fe-Mn基合金表面离子镀1Cr18N i9Ti不锈钢薄膜,改性后的Fe-Mn基合金在1 mol/L Na2SO4溶液中的耐均匀腐蚀性能和在1%NaC l溶液中的抗点蚀能力均明显优于未改性Fe-Mn基合金,甚至略优于1Cr18N i9Ti不锈钢。
3.
The cross section microstructure of ion-plating aluminum bronze film wasstudied by TEM.
本文利用透射电镜对离子镀铝青铜膜进行横截面显微组织研究结果表明:整个膜层分为细等轴晶、细纤维状及柱状晶三种不同形态的生长区并且柱状晶主要以孪晶方式生长膜中存在NiAIl Cu_9Al_4合金相,与基体取向关系为:讨论了膜层成核和生长过程发现气相沉积膜层中存在生长条
3) IVD Al
离子镀铝
1.
Influence of Post-coating Treatment on IVD Al Corrosion Performance;
后处理对离子镀铝涂层腐蚀性能的影响研究
5) Ion Plating-penetrating
离子镀渗
6) HCD ion plating
HCD离子镀
补充资料：离子镀
分子式：
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
CAS号：
性质：镀料和镀件置于真空室中，在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气)，使真空度保持在0.1～1Pa。接通负高压，使蒸发源(镀料；阳极)和镀件(阴极)之间放电，建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热，使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下，金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速，射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀，附着力好，可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条