1) DC arc plasma jet CVD
直流电弧等离子喷射化学气相沉积
2) DC-arc plasma jet CVD
直流电弧等离子体喷射化学气相沉积
1.
In order to synthesize high quality surface acoustic wave devices and explore the deposition process of diamond films,large-area high-quality diamond films were deposited on silicon substrate by DC-arc plasma jet CVD.
为制备高质量的声表面波器件,探索金刚石薄膜的沉积工艺,采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术和特殊的复合衬底技术,在单晶硅衬底上制备了大面积、高质量的金刚石薄膜,成功解决了单晶硅衬底在沉积金刚石薄膜过程中产生的变形问题。
3) DC-RF-PECVD
直流射频等离子增强化学气相沉积
1.
Diamond-like carbon films were successfully deposited on Si substrate by direct current radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (DC-RF-PECVD).
利用直流射频等离子增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石碳薄膜。
4) direct current radio frequency plasma chemical vapour deposition
直流射频等离子体化学气相沉积
5) direct current-radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (DC-RF PECVD)
直流-射频等离子化学气相沉积
6) Direct current plasma enhanced chemical vapour deposition
直流等离子体增强化学气相沉积
补充资料：等离子化学裂解
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：利用等离子炬热进行的裂解。在石油化工方面很是重要。一种等离子体喷枪的结构示意图如图。工作气流（氢气或氮气）以切线（或轴向）进入喷枪的阴极了阳极的环间，用引弧的方法使工作气体离子化，即等离子炬的发生。喷枪的阴极和阳极采用直流电。液态烃在氢等离子炬中生成乙炔等。电耗比电石法低。成功的关键在延长喷枪使用寿命、减少电耗和提高乙炔含量。
分子量：
CAS号：
性质：利用等离子炬热进行的裂解。在石油化工方面很是重要。一种等离子体喷枪的结构示意图如图。工作气流（氢气或氮气）以切线（或轴向）进入喷枪的阴极了阳极的环间，用引弧的方法使工作气体离子化，即等离子炬的发生。喷枪的阴极和阳极采用直流电。液态烃在氢等离子炬中生成乙炔等。电耗比电石法低。成功的关键在延长喷枪使用寿命、减少电耗和提高乙炔含量。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条