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1)  plasma nitriding
等离子氮化
1.
Study of bacterial adhesion on titanium alloy surface modified by plasma nitriding;
钛合金等离子氮化表面的细菌粘附研究
2)  plasma nitridation
等离子体氮化
1.
MMT(modified magnetron typed)plasma nitridation and NO anneal are us ed to treat ultra-thin gate oxides in MOSFETs(metal-oxide-semiconductor fiel d effect transistors).
介绍了利用MMT等离子体氮化工艺和炉管NO退火氮化工艺制备的超薄栅介质膜的电学特性和可靠性。
3)  Plasma nitriding
等离子体氮化
4)  ammonia nitrid
NH_3等离子体氮化
5)  nitride plasma passivation
氮等离子钝化
6)  plasma nitrocarburizing
等离子软氮化
1.
Study on the post-oxidizing treatment of 40Cr steel after plasma nitrocarburizing;
40Cr钢等离子软氮化的后氧化处理研究
补充资料:氮化硅晶须补强氮化铝陶瓷基复合材料
分子式:
CAS号:

性质:以氧化铝陶瓷为基体,氮化硅晶须为增强体的复合材料,是一种性能优异的耐高温结构陶瓷。加入氮化硅晶须,可使氧化铝陶瓷的强度、韧性、抗热震性等得到明显的改善。在氧化铝基体中,加入20%(质量)氮化铝晶须制得的复合材料基强度提高了约50%,断裂韧性KIC达到氧化铝基体的1.5倍。这种材料可用于机械受力及耐磨部件以及作为耐热、耐腐蚀部件。

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