1) carbon nitride film/plasma source
氮化碳膜/等离子体源
2) carbon plasma arc-discharger
碳等离子体源
1.
Study on emission characteristics of pulsed carbon plasma arc-discharger;
脉冲碳等离子体源发射特性研究
3) plasma source ion nitriding
等离子体源离子渗氮
1.
The potential E-pH diagram of the 13 pm-thick γN phase layer with a peak of nitrogenconceatration of 32%, which formed on the 1Cr18Ni9Ti austenitic stainless steel nitrided at 380 ℃ byplasma source ion nitriding, has been obtained in 3% NaCl solutions.
等离子体源离子渗氮1Cr18Ni9Ti不锈钢获得的峰值氮含量为32％，深度为13μm的单相高氮面心相（γN）表面改性层，与原始不锈钢相比较，在3％NaCl溶液中的E-pH图具有扩大的热力学稳定区、完全钝化区，以及缩小的不完全钝化区、孔蚀区。
2.
An amorphous boron-carbon-nitrogen film was syathesized by plasma source ion nitriding,that is nitrogen ion implantation at low energy (1-3 keV) and superhigh dose (1019-1020ions.
采用等离子体源离子渗氮，即低能（1-3keV）、超大剂量（10~(19)～10~(20)ions。
3.
A new surface modification method of electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma source ion nitriding is introduced to surface freatment of austenitic stainless steel for combined improvement in wear and corrosion resistance.
采用电子回旋共振（ＥＣＲ）微波等离子体源离子渗氮技术对奥氏体不锈钢进行氮化处理，获得与等离子体浸没离子注入（ＰＩＩ）结果相似的高硬度、高耐磨性表面改性层。
4) plasma nitridation
等离子体氮化
1.
MMT(modified magnetron typed)plasma nitridation and NO anneal are us ed to treat ultra-thin gate oxides in MOSFETs(metal-oxide-semiconductor fiel d effect transistors).
介绍了利用MMT等离子体氮化工艺和炉管NO退火氮化工艺制备的超薄栅介质膜的电学特性和可靠性。
6) ammonia nitrid
NH_3等离子体氮化
补充资料：碳纤维冷等离子体表面处理
碳纤维冷等离子体表面处理
sUrfaCe treatmentof earbon fibre bV cold plasma
提高到45.00mJ/m2，对水的浸润角由770降为65。，表面一COOH的含量由4 .44%提高到6 .80%，C一OH含量由33.45%提高到36.94%，、)C一0含量由10.67%提高到14.40%，纤维的抗拉强度由1965MPa提高到3529 MPa，所制复合材料的层剪强度由60 .4MPa增加到104 .7 MPa。 ②等离子体聚合表面改性:聚合性的物质在等离子体的引发下，在碳纤维表面发生聚合接枝而改变表面性能。这种表面改性具有很大的可塑性。它可以根据需要将一定结构性能的聚合物接枝到碳纤维表面，使复合材料具有预设计的界面层，使其性能按人们要求的目标发展。如中国产高强I型碳纤维，先经等离子体处理，让表面形成一些活性点，然后等离子体接枝预定性能的聚合物，于是就可以将一个可塑又防水互穿交联结构的混杂界面层引入到复合材料中去，结果复合材料的层剪强度由75.94MPa提高到99.05MPa，断裂韧性常数由31 .20 MPa·m“2提高到77 .40MPa·m“2，模量由1.26又lo5MPa提高到1.30火fo5MPa，玻璃化温度由176oC提高到235℃，8小时水煮层剪强度保留率由92.73%提高到99.79%。由此可见，冷等离子体处理碳纤维表面，既提高复合材料的层剪强度，又可以进行界面工程设计，将一定结构性能的界面层引入到复合材料中去，让其性能按人们预定目标发展。 (孙慕瑾)碳纤维冷等离子体表面处理Surfaee treatmentof earbon fibre by cold plasma对碳纤维进行低温等离子体处理。低温等离子体是非热力学平衡等离子体。其基本粒子有电子、正负离子、原子或分子，激发态原子或分子，基态原子或分子，光子。基本粒子具有的能量为20eV，远比各类化学键键能高。因此，在常温下用等离子体氧去氧化碳纤维表面，则在纤维表面能形成含氧化合物，而一般的氧在常温下不可能氧化碳纤维表面。 低温等离子体处理一般包括以下两个方面。 ①等离子体处理:在等离子体状态下非聚合性气体对碳纤维表面作用的物理和化学过程。非聚合性气体是指02、NZ、CO、COZ、HZO、NH3等反应性气体，以及Ar、He、HZ等非反应性气体。前者能直接与碳反应而形成含氧或含氮的基团，同时也产生自由基，发生连锁反应，引入大量的含氧或含氮基团;后者不能与碳反应，主要是生成自由基，发生连锁反应引入大量的含氧或含氮基团。因此，二者都能改善表面的浸润性和反应性，提高界面的粘接强度。此外等离子体表面处理还能清除碳纤维表面的微裂缝，减少应力集中源，从而提高纤维本身的抗拉强度。如中国产高强I型碳纤维，经低温等离子体气处理之后，表面能从36.81mJ/m“
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条