1) plasma silicon nitride
等离子氮化硅
2) plasma nitriding
等离子氮化
1.
Study of bacterial adhesion on titanium alloy surface modified by plasma nitriding;
钛合金等离子氮化表面的细菌粘附研究
3) plasma nitridation
等离子体氮化
1.
MMT(modified magnetron typed)plasma nitridation and NO anneal are us ed to treat ultra-thin gate oxides in MOSFETs(metal-oxide-semiconductor fiel d effect transistors).
介绍了利用MMT等离子体氮化工艺和炉管NO退火氮化工艺制备的超薄栅介质膜的电学特性和可靠性。
5) ammonia nitrid
NH_3等离子体氮化
6) nitride plasma passivation
氮等离子钝化
补充资料：氮化硅晶须补强氮化铝陶瓷基复合材料
分子式：
CAS号：
性质：以氧化铝陶瓷为基体，氮化硅晶须为增强体的复合材料，是一种性能优异的耐高温结构陶瓷。加入氮化硅晶须，可使氧化铝陶瓷的强度、韧性、抗热震性等得到明显的改善。在氧化铝基体中，加入20%(质量)氮化铝晶须制得的复合材料基强度提高了约50%，断裂韧性KIC达到氧化铝基体的1.5倍。这种材料可用于机械受力及耐磨部件以及作为耐热、耐腐蚀部件。
CAS号：
性质：以氧化铝陶瓷为基体，氮化硅晶须为增强体的复合材料，是一种性能优异的耐高温结构陶瓷。加入氮化硅晶须，可使氧化铝陶瓷的强度、韧性、抗热震性等得到明显的改善。在氧化铝基体中，加入20%(质量)氮化铝晶须制得的复合材料基强度提高了约50%，断裂韧性KIC达到氧化铝基体的1.5倍。这种材料可用于机械受力及耐磨部件以及作为耐热、耐腐蚀部件。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条