1) heat-treatment speed rate
热处理速率
2) thermal rate treatment
热速处理
1.
Effect of thermal rate treatment on as-cast microstructure and mechanical property of Al-Fe alloy;
热速处理对Al-Fe合金组织与性能的影响
2.
The effect of Fe on the microstructure and properties of AZ91 Mg-Al alloy subjected to thermal rate treatment was investigated by using TRT and CM process.
利用熔体热速处理工艺(TRT)和普通熔炼工艺(CM),研究了Fe对AZ91镁合金热速处理组织、性能的影响。
3) thermal-rate treatment
热速处理
1.
The effect of thermal-rate treatment (TRT) on microstructure and mechanical properties of AZ70 magnesium alloys was studied.
研究了热速处理对AZ70镁合金显微组织和力学性能的影响。
4) throughput
[英]['θru:pʊt] [美]['θru'put]
处理速率
1.
Considering the throughput of(255,223) RS hardware decoder,the implementation of(255,223) RS hardware decoder is discussed in detail.
考虑到对(255,223)RS码硬件译码器的处理速率的要求,详细地介绍了(255,223)RS码硬件译码器的实现流程,并且分析了影响处理速率提高的瓶颈因素,最终采用了RiBM算法使得硬件译码器的最高仿真处理速率超过340Mbit/s。
5) rapid thermal process
快速热处理
1.
Sol-Gel method and rapid thermal process (RTP) were used to fabricate and crystallize Y_ 2.
为使YIG磁性薄膜应用到Si集成电路中,利用Sol-Gel技术晶化温度低的特点,结合快速热处理(RTP)工艺在Si基上制备了Y2。
2.
The effects of rapid thermal process (RTP) on the DZ and oxygen precipitation of large diameter Czochralski silicon are investigated.
主要研究了快速热处理 ( RTP)对大直径直拉 ( CZ)硅片的清洁区 ( DZ)和氧沉淀的影响 。
3.
Rapid thermal process (RTP) was performed to heavily doped silicon wafers in Ar and N2 ambient.
在氮气和氩气气氛下,对重掺杂硅片进行快速热处理,研究了快速热处理温度、降温速度和保温时间对重掺杂硅片中氧沉淀的影响。
6) rapid thermal annealing
快速热处理
1.
Effect of rapid thermal annealing on electron emission and DX centers in strained InGaAs/GaAs single quantum well laser diodes;
快速热处理对应变InGaAs/GaAs单量子阱激光二极管电子发射和DX中心的影响
2.
In isfound that rapid thermal annealing can improve the 77K photoluminescence efficiency and electronemission from the active layer, due to the removal of nonradiative centers from the InGaAs/GaAs interface.
8)As/GaAs折射率梯度变化异质结单量子阱激光二极管的快速热处理(RTA)效应。
3.
BaSrTiO3(BST) thin films were deposited by radio frequency magnetron sputtering,and then treated by rapid thermal annealing process.
采用射频溅射法在Si基片上制备BaSrTiO3(BST)薄膜,利用X射线衍射和原子力显微镜(AFM)研究了快速热处理温度和时间对BaSrTiO3薄膜微结构的影响。
补充资料：金属热处理:真空热处理
将金属工件在 1个大气压以下(即负压下)加热的金属热处理工艺。20世纪20年代末﹐随著电真空技术的发展﹐出现了真空热处理工艺﹐当时还仅用於退火和脱气。由於设备的限制﹐这种工艺较长时间未能获得大的进展。60～70年代﹐陆续研製成功气冷式真空热处理炉﹑冷壁真空油淬炉和真空加热高压气淬炉等﹐使真空热处理工艺得到了新的发展。在真空中进行渗碳﹐在真空中等离子场的作用下进行渗碳﹑渗氮或渗其他元素的技术进展﹐又使真空热处理进一步扩大了应用范围。
特点 金属零件在真空中的热处理能防止氧化脱碳并具有脱气效应﹐但金属元素可能蒸发。
防止氧化脱碳 真空热处理炉的加热室在工作时处於接近真空状态﹐仅存在微量一氧化碳和氢气等﹐它们对於加热的金属是还原性的﹐不发生氧化脱碳的反应﹔同时还能使已形成的氧化膜还原﹐因此加热后的金属工件表面可以保持原来的金属光泽和良好的表面性能。
脱气效应 金属零件在真空环境中加热时﹐金属中的有害气体﹐例如鈦合金中的氢和氧﹐会在高温下逸出﹐有利於提高金属的机械性能。
金属元素蒸发 各种元素都有自身的蒸气压﹐如果环境中的压力低於某种元素的蒸气压﹐这种元素就会蒸发。在真空热处理时﹐应根据钢中所含合金元素的蒸气压来选择加热时的真空度或温度﹐以避免合金元素蒸发。
工艺 真空热处理可用於退火﹑脱气﹑固溶热处理﹑淬火﹑回火和沉淀硬化等工艺。在通入适当介质后﹐也可用於化学热处理。
真空中的退火﹑脱气﹑固溶处理主要用於纯净程度或表面质量要求高的工件﹐如难熔金属的软化和去应力﹑不锈钢和镍基合金的固溶处理﹑鈦和鈦合金的脱气处理﹑软磁合金改善导磁率和矫顽力的退火﹐以及要求光亮的碳钢﹑低合金钢和铜等的光亮退火。真空中的淬火有气淬和液淬两种。气淬即将工件在真空加热后向冷却室中充以高纯度中性气体(如氮)进行冷却。适用於气淬的有高速钢和高碳高铬钢等马氏体临界冷却速度较低的材料。液淬是将工件在加热室中加热后﹐移至冷却室中充入高纯氮气并立即送入淬火油槽﹐快速冷却。如果需要高的表面质量﹐工件真空淬火和固溶热处理后的回火和沉淀硬化仍应在真空炉中进行。
特点 金属零件在真空中的热处理能防止氧化脱碳并具有脱气效应﹐但金属元素可能蒸发。
防止氧化脱碳 真空热处理炉的加热室在工作时处於接近真空状态﹐仅存在微量一氧化碳和氢气等﹐它们对於加热的金属是还原性的﹐不发生氧化脱碳的反应﹔同时还能使已形成的氧化膜还原﹐因此加热后的金属工件表面可以保持原来的金属光泽和良好的表面性能。
脱气效应 金属零件在真空环境中加热时﹐金属中的有害气体﹐例如鈦合金中的氢和氧﹐会在高温下逸出﹐有利於提高金属的机械性能。
金属元素蒸发 各种元素都有自身的蒸气压﹐如果环境中的压力低於某种元素的蒸气压﹐这种元素就会蒸发。在真空热处理时﹐应根据钢中所含合金元素的蒸气压来选择加热时的真空度或温度﹐以避免合金元素蒸发。
工艺 真空热处理可用於退火﹑脱气﹑固溶热处理﹑淬火﹑回火和沉淀硬化等工艺。在通入适当介质后﹐也可用於化学热处理。
真空中的退火﹑脱气﹑固溶处理主要用於纯净程度或表面质量要求高的工件﹐如难熔金属的软化和去应力﹑不锈钢和镍基合金的固溶处理﹑鈦和鈦合金的脱气处理﹑软磁合金改善导磁率和矫顽力的退火﹐以及要求光亮的碳钢﹑低合金钢和铜等的光亮退火。真空中的淬火有气淬和液淬两种。气淬即将工件在真空加热后向冷却室中充以高纯度中性气体(如氮)进行冷却。适用於气淬的有高速钢和高碳高铬钢等马氏体临界冷却速度较低的材料。液淬是将工件在加热室中加热后﹐移至冷却室中充入高纯氮气并立即送入淬火油槽﹐快速冷却。如果需要高的表面质量﹐工件真空淬火和固溶热处理后的回火和沉淀硬化仍应在真空炉中进行。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条