1) H2O-H2-N2 environments
H2O-H2-N2气氛
1.
The Sialon/SiC and Si3N4/SiC products which are used at reduction furnace are fired at 1 223 K,1 323 K and 1 423 K for 100 h in H2O-H2-N2 environments.
研究铁精粉还原炉中的Sialon/SiC和Si3N4/SiC内衬材料在1 223 K、1 323 K、1 423 K温度下和H2O-H2-N2气氛中氧化100 h前后的质量变化及反应前后的显气孔率、体积密度、XRD衍射分析和SEM分析。
2) N2 atmosphere
N2气氛
3) H2/N2 gas mixture
H2/N2混合气
4) H_2-O_2 atmosphere
H2-O2气氛
5) sintering in N2
N2气氛烧结
6) H2-O2(N2) mixture
H2-O2(N2)混合气体
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条