1) HDP CVD
高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD)
1.
For its stability and good Gap fill performance, high density plasma chemical vapour deposition (HDP CVD) is widely used in VLSI manufacture.
高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD),具有卓越的填孔能力和可靠的电学特性等诸多优点,因此它被广泛应用于超大规模集成电路制造工艺中。
2) microwave plasma chemical vapor deposition(CVD)
微波等离子体化学气相沉积(CVD)
3) plasma-enhanced chemical vapour deposition (PE-CVD)
等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)
1.
Porous nanocrystalline TiO2 thin film was deposited on glass substrates by dielectric barrier discharge plasma-enhanced chemical vapour deposition (PE-CVD) with pulsed bias voltage and TiCl4/O2 mixture.
采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法及TiCl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜。
2.
Amorphous TiO2 thin films were prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition (PE-CVD) on glass substrates at room temperature, TTIP (Ti(OC3H7)4) was used as a precursor compound, and carried into reactor by O2.
使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较。
4) PECVD
等离子体CVD
1.
In this thesis,GeSi films were grown on glass substrates by PECVD.
采用等离子体CVD法在玻璃衬底上沉积 Ge Si薄膜 ,研究了不同生长条件下的样品的光学特性 ,从样品的紫外 -可见光反射谱和透射谱计算出光学带隙 ,发现随着 Ge含量的增加 ,薄膜的光学带隙减小。
5) chemical vapor deposition(CVD)
化学气相沉积(CVD)
6) CVD
化学气相沉积(CVD)
补充资料：高密度
高密度
影像学术语。CT扫描中，高于参照结构密度值结构的密度。和常规X线影像不同，CT影像可测得经标定的密度值，因此可定量性地比较兴趣结构与参照结构的密度。由于参照结构的密度因结构而异，因此“高密度”的概念不是一恒定的密度值。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条