1) minimal exposure dose
最小曝光剂量
1.
On the base of the measurement of optical performance and the minimal exposure dose,we study its photolithography process.
通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力。
2) minimum exposure energy
最小曝光量
3) Exposure dose
曝光剂量
1.
Based on DILL model,we analyze the change of intensity and position of standing wave resulting from the variation of resist refractive index,and the variation of exposure dose induced by standing wave effect in the exposure process.
根据DILL曝光模型进行了模拟计算,分析了在曝光过程中抗蚀剂折射率的改变对驻波强度和位置的影响以及驻波效应引起抗蚀剂曝光剂量分布的变化,并结合MACK显影模型分析了当抗蚀剂的厚度改变时,驻波效应对其显影轮廓的影响程度,计算分析得出了一个可以不采用后烘工序的抗蚀剂厚度值。
2.
The influences on lithorgraphy pattern from surface spin coating technics of photoresist,exposure dose and prebaking are discussed.
研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂工艺、曝光剂量、前烘对光刻图形的影响。
3.
Objective To assess the correlation between the entrance surface dose(ESD) of phantom and detection of simulated pulmonary lesion,and to explore the optimization of exposure dose for computed radiography(CR).
方法在仿真胸部体模中放置模拟网状、线状和结节病变结构,用不同曝光剂量组采集CR图像。
4) optimum exposure energy
最佳曝光量
5) MPE(maximum permissible exposure)
最大允许曝光量
6) minimum dose
最小剂量
补充资料：最小曝光量
分子式：
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条