1) CCD exposure quantity
CCD曝光量
1.
The control principles of CCD exposure quantity and electronic shutter are introduced.
针对电视测角仪所探测的目标背景亮度变化大,导弹目标可能被背景淹没的问题,提出了固定光圈加电子快门控制CCD曝光量,使CCD只对导弹目标清晰成像,最大限度地抑制背景的方法;介绍了CCD曝光量和电子快门的控制原理;给出了电子快门控制电路框图和控制算法。
2) exposure
[英][ɪk'spəʊʒə(r)] [美][ɪk'spoʒɚ]
(1)曝光(2)曝光量
3) CCD photo electricity measurement
CCD光电测量
1.
This paper introduces a metrical system in which CCD photo electricity measurement and single chip microcomputer are emploged.
本文作者研究介绍了一种集CCD光电测量技术、单片机应用技术于一体的测量系统。
4) exposure
[英][ɪk'spəʊʒə(r)] [美][ɪk'spoʒɚ]
曝光量
1.
Determines the Child Chest X-ray Photography Exposure and the CR Applied Research According to the Age;
依年龄确定小儿胸部X线摄影曝光量与CR应用研究
2.
Constructing high dynamic range image based on photographs with different amounts of exposure;
基于多幅不同曝光量照片的场景高动态范围图像合成
3.
Design of Automatic Exposure Control of Aerocamera;
无人驾驶飞机航空照相设备曝光量自动控制的设计
6) Exposure dose
曝光剂量
1.
Based on DILL model,we analyze the change of intensity and position of standing wave resulting from the variation of resist refractive index,and the variation of exposure dose induced by standing wave effect in the exposure process.
根据DILL曝光模型进行了模拟计算,分析了在曝光过程中抗蚀剂折射率的改变对驻波强度和位置的影响以及驻波效应引起抗蚀剂曝光剂量分布的变化,并结合MACK显影模型分析了当抗蚀剂的厚度改变时,驻波效应对其显影轮廓的影响程度,计算分析得出了一个可以不采用后烘工序的抗蚀剂厚度值。
2.
The influences on lithorgraphy pattern from surface spin coating technics of photoresist,exposure dose and prebaking are discussed.
研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂工艺、曝光剂量、前烘对光刻图形的影响。
3.
Objective To assess the correlation between the entrance surface dose(ESD) of phantom and detection of simulated pulmonary lesion,and to explore the optimization of exposure dose for computed radiography(CR).
方法在仿真胸部体模中放置模拟网状、线状和结节病变结构,用不同曝光剂量组采集CR图像。
补充资料：最小曝光量
分子式：
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条