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1)  Disinfection process
消毒流程
2)  Disinfection [英][,disin'fekʃən]  [美][,dɪsɪn'fɛkʃən]
消毒过程
1.
The Process Safety Management of EO Disinfection;
环氧乙烷消毒过程的安全管理
3)  fire-fighting flow
消防流程
4)  process of virus
病毒运行流程
5)  disinfection [英][,disin'fekʃən]  [美][,dɪsɪn'fɛkʃən]
消毒
1.
Study on disinfection problems in municipal wastewater reclamation treatment process;
城市污水再生利用中的消毒问题研究
2.
Technical comparison of the two kinds of disinfections technology for the hospital sewage treatment;
医院污水两种新兴消毒技术的对比分析研究
3.
Efficacy and Toxicity of Tetrakis (Hydroxymethyl) Phosphonium Sulfate in Indoor Air Disinfection;
四羟甲基硫酸膦的室内空气消毒效果与毒性
6)  Sterilization [英][,sterilai'zeiʃən]  [美][,stɛrələ'zeʃən]
消毒
1.
Waste Gas Discharged from Hospital Central Vacuum Aspiration System and Its Sterilization by Nanometric Photocatalysis;
医院中心负压吸引系统废气排放应用纳米光催化技术消毒的研究
2.
Sterilization Effect on On-wall Oxygen Humidifying Inhalation Sets;
壁式供氧装置消毒效果研究
3.
Sterilization Method for On-wall Oxygen Humidifying Inhalation Sets;
壁式供氧湿化瓶配套装置全程消毒方法
补充资料:正规过程和倒逆过程
      讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢(见布里渊区),所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
  
  
     , (1)
  式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢,式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)=0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧,这时散射使声子传播方向发生了倒转,故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数,而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高,简约区边界附近的声子有较多激发时,U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
  
  在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
  k+G=k┡±q,
  
     (2)
  式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中,总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处,连续媒质对无穷小平移具有不变性,才能求得总波矢守恒,而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性,因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
  

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