1) array correction algorithm
阵列校正算法
2) Array calibration
阵列校正
1.
Although the importance of proper array calibration has been recognized widely and many array calibration algorithms have been reported extensively in the literature,the array calibration in the presence of multipath ha.
但是,现有的阵列校正算法几乎都没有考虑实际校正过程中辅助校正源的多径传播。
2.
Multipath effect is rarely concerned in many existing array calibration algorithms.
现有的阵列校正算法几乎都没有考虑存在多径效应时的情况,对此提出了一种米波雷达低仰角环境下波达方向估计和阵列通道误差校正的新算法。
3) correctional matrix calculation
校正矩阵计算法
1.
Correctional matrix calculation is applied to single point precipitation in this article.
本文将校正矩阵计算法应用于单点沉淀滴定法中，同时测定了卤素及硫氰酸盐混合物各组分含量讨论了方法原理、指定电位的确定及常数矩阵的建立对２８个二元、三元及四元混合样进行分析，获得满意结果
4) Array self-calibration
阵列自校正
5) calibrated matrix calculation-titration method
校正矩阵计算滴定法
1.
In this paper the simultaneous determination of multicomponent metal ions has been investigated by calibrated matrix calculation-titration method.
本文用校正矩阵计算滴定法,同时测定二、三和四元金属离子混合物。
6) correction algorithm
校正算法
1.
Double refraction correction algorithm in SLM micro stereo vision
SLM显微立体视觉中的双重折射校正算法
2.
But in commercial TPS, the most dose calculated methods are based on the data measured from the box of pure water or simulated by Monte Carlo code, then the different correction algorithms are used to correct the results of pure water, and at last the results of dose calculation in accordance with the actual anatomical data and the curved and irregular body surface could be calculated.
在本文中编程实现了基于图像CT值的Batho推广形式剂量校正算法,在纯水箱算例、水肺水算例,水骨水算例以及真实病例的基础上,以蒙特卡罗三维粒子输运计算程序EGSnrc的计算结果为参考标准,对上述算例进行验证,我们并将该算法在精确放射治疗计划和保证系统ARTS中做了集成,发现该方法结构简明,移植性好,其校正精度和速度能够满足临床放射治疗的要求;对三种人体不规则轮廓校正方法进行算例验证,发现有效源皮距方法和组织空气比法/组织最大比法计算结果精度相当能够满足临床要求,可以作为有效的人体外轮廓校正方法在商用治疗计划系统中使用;我们还研究了基于衰减系数法的楔形挡板剂量校正模型,在原始方法存在不足的基础上我们提出了一种线性拟合的改进楔形挡板剂量校正模型,并以AAPM55#报告中提供的楔形挡板的测量数据作为参考标准,比较了原始方法和改进方法,在保持原始方法优越性的基础上,提高了百分深度上的计算精度。
3.
This paper presents a correction algorithm according to the countermark characters of cylinder mark printer and correlation provisions of 《Gas Cylinder Safety Supervision Rules》.
针对钢瓶刻印机的刻印特点和《气瓶安全监察规程》中相关规定提出了一种校正算法。
补充资料：阵列
分子式：
CAS号：
性质：作为一个整体呈现在硅片上或由分步重复制作在光刻材料上的全部同类功能图形。
CAS号：
性质：作为一个整体呈现在硅片上或由分步重复制作在光刻材料上的全部同类功能图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条