2) Nb/Si multilayers
Nb/Si多层膜
1.
The microstructures of Nb/Si multilayers prepared by ion beam sputtering technique have been studied by using XRD and CTEM.
利用X射线衍射和截面透射电子显微镜观测到室温和 56 0℃沉积的Nb/Si多层膜为非晶多层膜 ,但它们的微结构有很大的不同。
3) Fe/In2O3/Fe multilayer film
Fe/In2O3/Fe多层膜
1.
Fe/In2O3/Fe multilayer films have been prepared by RF sputtering method.
采用射频溅射方法成功制备了由过渡族元素Fe和半导体材料In2O3交替生长构成的Fe/In2O3/Fe多层膜。
4) Fe/Pt multilayer
Fe/Pt多层膜
5) Fe/Si_3N_4 multilayers
Fe/Si3N4多层膜
6) Fe/Co multilayers
Fe/Co多层膜
1.
Comparison of magnetic properties of Fe/Co multilayers prepared by DC magnetron sputtering on glass and Si substrates;
直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较
补充资料：[3-(aminosulfonyl)-4-chloro-N-(2.3-dihydro-2-methyl-1H-indol-1-yl)benzamide]
分子式：C16H16ClN3O3S
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
分子量：365.5
CAS号：26807-65-8
性质：暂无
制备方法：暂无
用途：用于轻、中度原发性高血压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条