1) PS CCT
PS胶体晶体模板
2) PS colloidal crystal
PS胶体晶体
3) colloidal crystal templates
胶体晶体模板
1.
Ordered macroporous polymethylmetacrylate fabricated from colloidal crystal templates;
胶体晶体模板法合成有序大孔聚甲基丙烯酸甲酯
4) colloidal crystal template
胶体晶体模板
1.
Three-dimensionally ordered macroporous(3DOM) materials poss a uniform and periodical macroporous structure,and the colloidal crystal template technique is a major way to synthesize 3DOM materials.
三维有序大孔材料具有均一、有序的大孔结构,制备3DOM材料主要以胶体晶体模板法为主;综述了以胶体晶体模板技术制备金属、金属氧化物、聚合物、碳材料等各类三维有序大孔材料的方法,从制备和催化应用两方面介绍了三维有序大孔材料的研究进展;评述了三维有序大孔材料多孔结构应用于催化领域的优势,并对其中的不足提出了加以改善的措施。
6) colloidal crystal templates
胶态晶体模板
补充资料：PS
分子式：
CAS号：
性质：为苯乙烯均聚物。无色透明、高光泽。加工性、着色性、刚性和电绝缘性良好，但质脆易裂。耐酸碱、氧化还原剂、醇类和洗涤剂，不耐烃类和氯烃类溶剂。拉伸强度36～52MPa，弯曲模量2620～3380MPa，悬臂梁缺口冲击韧性19～24J/m。热变形温度76～94℃。体积电阻率1017～1019Ω·cm，介电常数(50～106Hz)2.2～2.7，介质损耗正切(50～106Hz)0.0001～0.0002，介电强度19.7kV/mm。系由苯乙烯在引发剂存在下进行自由基聚合得到。工业生产均用连续本体聚合法。主要用作音像制品和光盘磁盘盒，灯具和室内装饰件，高频电绝缘零件。其双轴取向薄膜为包装和电器工业的主要材料。
CAS号：
性质：为苯乙烯均聚物。无色透明、高光泽。加工性、着色性、刚性和电绝缘性良好，但质脆易裂。耐酸碱、氧化还原剂、醇类和洗涤剂，不耐烃类和氯烃类溶剂。拉伸强度36～52MPa，弯曲模量2620～3380MPa，悬臂梁缺口冲击韧性19～24J/m。热变形温度76～94℃。体积电阻率1017～1019Ω·cm，介电常数(50～106Hz)2.2～2.7，介质损耗正切(50～106Hz)0.0001～0.0002，介电强度19.7kV/mm。系由苯乙烯在引发剂存在下进行自由基聚合得到。工业生产均用连续本体聚合法。主要用作音像制品和光盘磁盘盒，灯具和室内装饰件，高频电绝缘零件。其双轴取向薄膜为包装和电器工业的主要材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条