1) OPC Optical Proximity Correction
光学临近修正
2) OPC
光学临近效应修正
1.
Various Effective Resist Diffusion Lengths Methodology for OPC Model Calibration;
基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法(英文)
4) Modified geometric optics method
修正的几何光学近似方法
5) optical proximity correction(OPC)
光学邻近校正
1.
By analyzing decomposition problems and optical proximity correction(OPC) reuse scheme based on segments,a relationship was set up between changed layout from re-split and previous OPC data,namely fragmentation and offset informati.
通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解修正后的版图与前次OPC数据-分段和段偏移量之间建立了关联,并进行了相关实验。
6) optical proximity correction
光学邻近校正
1.
The production mechanism of proximity effect in laser direct writing is analyzed, its differences with projection optical lithography and electron beam lithography pointed out, and a convenient and effective optical proximity correction (OPC) method presented.
实验表明，通过光学邻近校正（ＯＰＣ），利用微米级激光直写系统，制作出了０。
补充资料：非线性光学效应
分子式：
CAS号：
性质：指由电磁辐射所产生，但其响应却与照度不成比例的一种现象。光化学中重要的非线性光学效应有谐频发生、激光、拉曼位移等。
CAS号：
性质：指由电磁辐射所产生，但其响应却与照度不成比例的一种现象。光化学中重要的非线性光学效应有谐频发生、激光、拉曼位移等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条