1) deposit lattice
淀积层点阵
2) point source diffusive percolation
点源淀积
3) illuvial layers of CaCO 3
CaCO_3淀积层
4) 2 illuvial layers
双层淀积
1.
On the basis of the materials in chemical analysis and investigating in field, 4 kinds of 2 illuvial layers have been asertained in this paper.
本文确定了黄土中古土壤有四种双层淀积类型。
6) laminar deposition
层状淀积
补充资料：化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积（chemicalvapourdeposition(CVD)）
化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中，由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2，Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长，特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD（MOCVD）。
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参考词条