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1)  deposit lattice
淀积层点阵
2)  point source diffusive percolation
点源淀积
3)  illuvial layers of CaCO 3
CaCO_3淀积层
4)  2 illuvial layers
双层淀积
1.
On the basis of the materials in chemical analysis and investigating in field, 4 kinds of 2 illuvial layers have been asertained in this paper.
本文确定了黄土中古土壤有四种双层淀积类型。
5)  Illuvial horizon
淀积层
6)  laminar deposition
层状淀积
补充资料:化学气相淀积(chemicalvapourdeposition(CVD))
化学气相淀积(chemicalvapourdeposition(CVD))

化学气相淀积是一种气体反应过程。在这个过程中,由某些选定气体的热诱导分解在衬底上形成某种介质层。在硅平面器件及集成电路中最常用的是淀积SiO2,Si3N4和多晶硅。化学气相淀积也广泛用于半导体单晶薄膜的外延生长,特别是多层膜的外延生长。在光电子器件和微波器件的制作中尤其常用。CVD方法视工作时反应室中气体压强不同分为常压、低压和超低压CVD。根据化学反应能量提供方式不同可分为热分解、光加热、射频加热、热丝、光、等离子体增强和微波等离子体增强CVD。按反应气源不同又分为卤化物、氢化物和金属有机化合物CVD(MOCVD)。

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