1) mask generation system
掩模生成系统
2) maskless pattern generation
无掩模图像生成
3) Reticle Handling System
掩模传输系统
4) Mask aligners
掩模对准系统
5) generation system of die surface
模面生成系统
1.
Application research & development of the generation system of die surface for skin stretch forming over reconfigurable tooling;
蒙皮拉形可重构柔性模具模面生成系统开发及应用研究
6) Module generation environment
模块生成系统
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条