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1)  negative resist pattern
负抗蚀图
2)  negative photoresist
负性抗蚀剂
1.
A new kind of chemically amplified negative photoresist without crosslinking agent was studied using this co-polymer as the base resin, which was developable in harmless NaOH-.
本文引入单体MAGME合成了具有自交联作用的MAGME、苯乙烯和N ( 4 羟基苯基 )马来酰亚胺的共聚物 ,并以该聚合物为基体树脂 ,研制了一种新型的水显影化学增幅型负性抗蚀剂 ,并初步研究了其光刻工艺条件 。
3)  negative photoresist
负形抗蚀剂
4)  resist pattern
光致抗蚀图
5)  photoresists,negative
负光阻抗蚀剂
6)  load impedance diagram
负载阻抗图
补充资料:X射线抗蚀剂
分子式:
CAS号:

性质:采用软X射线(波长0.4~5nm)作为曝光源的抗蚀剂。由于X射线波长较紫外波长短两个数量级,几乎没有衍射的干扰,而且因其能量比电子束小得多,可以获得高分辨率,X射线对尘埃的透过性好,曝光工艺的缺陷率就低。所有的电子束抗蚀剂均可作X射线抗蚀剂。

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参考词条