1) CVD boron nitride ceramics;PBN ceramics
气相沉积氮化硼陶瓷
3) boron nitride ceramic particles
氮化硼陶瓷颗粒
4) aluminum nitride-boron nitride composite ceramics
氮化铝-氮化硼复合陶瓷
5) aluminum nitride-boron nitride ceramies
氮化铝-氮化硼陶瓷
6) aluminium nitride boron nitride composite ceramics
氮化铝氮化硼复合陶瓷
补充资料：气相沉积
气相沉积
化学气相淀积[cvd(chemical vapor deposition)]，指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用cvd方法制备。
cvd特点：淀积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀性，重复性好，台阶覆盖性优良。
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