1) UV alkaline soluble etching resist ink
紫外碱溶抗蚀印料
2) UV nanoimprint resists
紫外纳米压印抗蚀剂
1.
The present study situation and the development trend of UV nanoimprint resists were analyzed.
总结了紫外纳米压印抗蚀剂的种类以及组分。
3) UV photoresist
紫外光致抗蚀剂
1.
So,the article introduces several important UV photoresists and their development in recent years.
本文介绍了近年来几种主要的紫外光致抗蚀剂及其研究进展,对ArF激基体激光(193nm)光致抗蚀剂的各个组分进行了归纳综述。
4) near uv resist
近紫外线抗蚀剂
5) deep UV resist
深紫外光致抗蚀剂
6) deep uv resist
远紫外线灵敏抗蚀剂
补充资料：深紫外光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条