说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 快速电路刻蚀
1)  RCE Rapid Circuit Etch
快速电路刻蚀
2)  RCE (rapid circuit etch)
快速电路蚀刻
3)  fast atom beam etching
快速原子束刻蚀
1.
A new microfabrication method--electron beam scanning exposure and fast atom beam etching--to fabricate sub wavelength gratings is described.
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。
4)  etched printed circuit
蚀刻印制电路
5)  Etched Printed Circuit
蚀刻印刷电路
6)  electrochemical acceleration
电化学快速锈蚀
补充资料:离子束刻蚀(ion-beametching)
离子束刻蚀(ion-beametching)

离子束刻蚀,也称为离子铣,它的主要原理是当定向高能离子向固体靶撞击时,能量从入射离子转移到固体表面原子上,如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时,固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。为了保证刻蚀的均匀性,离子束密度必须均匀并且应具有相同能量。此外,系统内的压力必须足够低,以防止离子束被散射。离子束刻蚀的机构决定了这种刻蚀有好的各向异性,又因为粒子尺寸是离子或原子量级的,因而这种刻蚀也具有较高的分辨率。这种技术的主要限制是刻蚀过程引起温升,这将使光刻胶很难除掉。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条