1) graduating diaphragm
刻度光阑
2) stop scale
光阑刻度(盘)
3) iris photometer
可变光阑光度计
4) angular limitation aperture
角度限制光阑
1.
The optimal image contrast which can be got when the illumination beam and the angular limitation aperture are in ideal conditions is presented with their woking principles.
结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差 ,详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方
5) deep lithography
深度光刻
1.
Application of DUV deep lithography in LIGA process;
深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
6) optical printing precision
光刻精度
1.
In practical application of nano negative refractive index Metamaterials, the effects of shape change and optical printing precision on nano negative refractive index Metamaterials are very important.
下面利用有限积分法模拟形状变化和光刻精度产生的缺陷对负折射谐振频率和通带的影响。
补充资料：可变光阑
可变光阑
iris diaphragm
光圈的一种形式。照相镜头用的光圈，大多属于这种形式。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条