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1)  metal casting
金属-势垒-金属结
2)  metal-semiconductor junction (Schottky barrier)
金属半导体结(肖特基势垒)
3)  metal semiconductor barrier
金属 半导体接触势垒
4)  metal-semiconductor-metal photodetector(MSM-PD)
金属-半导体-金属Schottky势垒光电探测器
5)  MESFET(metal-semiconductor field-effect transistor)
金属消特基势垒场效应晶体管
6)  MESFET
金属肖特基势垒场效应晶体管
1.
Intrinsic parameters are extracted from functions of MESFETs intrinsic elements by using extrinsic parameters as independent variables.
采用非本征元件的参数作为本征元件参数函数的自变量的方法 ,求解金属肖特基势垒场效应晶体管小信号等效电路模型 ,并采用相对误差来构建目标函数 。
补充资料:pn结势垒(barrierofp-njunction)
pn结势垒(barrierofp-njunction)

pn结的空间电荷区中,存在由n边指向p边的自建电场。因此,自然形成n区高于p区的电势差Vd。相应的电子势能之差即能带的弯曲量qVd称为pn结的势垒高度。pn结的p区和n区的多数载流子运动时必须越过势垒才能到达对方区域,载流子的能量低于势垒高度,就被势垒阻挡而不能前进,这个垫垒叫做pn结势垒。pn结的势垒高度与两边半导体中的杂质浓度及其分布、温度以及半导体材料的禁带宽度Eg有关。除pn结势垒外,还有金属与半导体接触的接触势垒(肖特基势垒)、半导体表面形成的表面势垒等。势垒高度受外加电场的影响,当外加电场削弱势垒区中电场时,势垒降低,载流子容易通过;外加电场加强势垒区的电场时,势垒高度升高,载流子不易通过。利用pn结势垒这一特性可制成整流、检波等多种半导体器件。

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