1) amorphous oxide film
非晶氧化薄膜
2) amorphous titanium dioxide film
非晶氧化钛薄膜
3) amorphous SiO_x:H films
非晶氧化硅薄膜
4) fluorinated amorphous carbon film
氟化非晶碳薄膜
1.
As one of promising interlay dielectrics used in the future ULSI, fluorinated amorphous carbon film (a-C: F) has been attracted intensively.
利用静电探针和光强标定的发射光谱(AOES)研究了CHF_3、CHF_3／C_6H_6气体ECR放电等离子体的特性及氟化非晶碳薄膜(a-C：F)的结构与等离子体空间基团分布的关系。
5) Hydrogenated amorphous carbon films
氢化非晶碳薄膜
6) Amorphous iron nitride thin films
非晶氮化铁薄膜
补充资料：稀土-铁族金属非晶薄膜磁光材料
分子式：
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
CAS号：
性质：用稀土和铁族金属制成的薄膜磁光材料其组成、电和磁性能及单轴各向异性受沉积条件及靶材成分影响。非晶态霍耳电压(VH)与磁场关系和极向克尔磁带回线相似，在补偿温度(Tcomp)附近，霍尔系数R1改变符号，当T<Tcomp时，R1为负，相反为正。其制备方法为高频溅射、真空蒸发、磁控溅射等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条