1) Semi-trailer
半脱车
2) semi-water coal gas de-sulfur process
半脱工艺
1.
Application was introduced for de-sulfur of catalysis-tannin extract method in semi-water coal gas de-sulfur process from aspects of process flow,equipment layout and operating process indexes etc.
从工艺流程、设备配置和运行工艺指标等方面介绍了催化栲胶法脱硫在半脱工艺中的应用;简述了888型脱硫催化剂的催化机理、反应原理以及催化栲胶法脱硫工艺的优点,着重分析了催化栲胶法脱硫的影响因素以及脱硫、再生、硫回收三者之间的相互影响和制约关系。
3) half de-chlorine value
半脱氯值
1.
The de-chlorine test method, half de-chlorine value test and SO_2 saturation capacity test method of activated carbon were introduced in this paper.
笔者介绍了测定活性炭的吸氯试验方法、活性炭半脱氯值的试验方法及活性炭吸附SO2 饱和容量的试验方
4) subluxation
[英][,sʌblʌk'seiʃən] [美][,sʌblʌk'seʃən]
半脱位
1.
Atlantoaxial Subluxation in Children;
小儿特发性寰枢椎半脱位
2.
The Experience on Diagnosis and Therapy of Subluxation of Sacroiliac Joint;
妊娠后骶髂关节半脱位诊治体会
3.
Diagnosis and treatment of the subluxation of sacroiliac joint;
骶髂关节半脱位的诊断与治疗
5) Hemipelvic dislocation
半盆脱位
1.
Objective:To observe and measure the Sacro-iliac joint and correlative parts for clinical reference in Hemipelvic dislocation internal fixation by double head hollowed screw.
目的 :通过骶髂关节及相关的解剖观测 ,为半盆脱位骶髂关节穿钉固定术提供临床应用依据。
6) drop-off radius
脱落半径
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条