说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 磁控管溅镀系统
1)  magnetron sputtering system
磁控管溅镀系统
2)  coxial magnetron sputtering system
同轴磁控管溅镀系统
3)  planar magnetron sputtering system
平面磁控管溅镀系统
4)  sputtering system
溅镀系统
5)  ExB magnetron sputtering system
直交电磁场型溅镀系统
6)  sputter-gun sputtering system
溅射枪溅镀系统
补充资料:离子镀
分子式:
CAS号:

性质:镀料和镀件置于真空室中,在一定真空度下从针形阀通入惰性气体(通常为氩气),使真空度保持在0.1~1Pa。接通负高压,使蒸发源(镀料;阳极)和镀件(阴极)之间放电,建立低压气体放电的等离子区和阴极区。然后将蒸发源通电加热,使镀料金属气化进入等离子区。在高速电子轰击下,金属气体一部分被电离并在电场作用下被加速,射在镀件表面而形成镀层。离子镀的主要特点是镀层均匀,附着力好,可用于装饰、表面硬化、电子元器件用的金属或化合物镀层、光学用镀层等。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条