1) potential instability
对粱稳定性
2) convective instability
对粱稳定
3) beam instability
束粱稳定性
4) two stream instability
双粱稳定性
5) nonviscous instability
非粘性粱稳定性
6) Relative stability
相对稳定性
1.
Structures and relative stability of medium-sized Si_N clusters(21≤N≤50 and N=60);
中等尺寸Si_N团簇结构和相对稳定性的研究(21≤N≤50,N=60)(英文)
2.
By define a isomerizational reaction Gibbs free energy(ΔG_(α-β))of α/β-[GeMo_(12)O_(40)]~(4-) isomerize reaction,we study the relative stability of those two isomer.
采用密度泛函方法,在DND基组水平上,对[GeMo12O40]4-杂多阴离子最常见的α和β异构体进行了几何构型优化,得到了与X射线晶体衍射实验结果相一致的结构参数,并在此基础上进行了振动频率分析,得到了杂多阴离子的电子结构、热力学特性和振动光谱,通过定义α,β异构体异构化反应的Gibbs函变ΔGα-β与温度的关系,研究了这两种异构体的相对稳定性。
3.
We have used an ab initio self - consistent field (SCF) molecular orbital approach to investigate the equilibrium geometry and relative stability of the C4O4m-( m = 0,1,2,3,4) .
在RHF(基离子在UHF和ROHF)/6-31G,6-31G~*和6-31+G水平优化得到C_4O_4~(m-)(m=0,1,2,3,4)的平衡几何构型,发现从中性分子(C_4O_4)到负4价离子(C_4O_4~(4-))经历了一个由非芳香性到芳香性再到反芳香性的结构变化过程,它们的相对稳定性为C_4O_4~->C_4O_4~(2-)>C_4O_4>C_4O_4~(3-)>C_4O_4~(4-)。
补充资料：稳定/稳定浴
分子式：
CAS号：
性质：照相中的稳定作用是指防止感光材料在保存过程中由于药膜中残留药液的作用而引起的暗褪色、色污染及霉变等弊病。通过正常冲洗或无水洗加工最后一个工序——稳定工序，可稳定照相影像，使之不变或变化极小。能起稳定作用的浴液称稳定浴。无水加工中的稳定浴主要由pH值控制剂、铁隐蔽剂、防霉剂、坚膜剂、软水剂、有机助剂等组成。
CAS号：
性质：照相中的稳定作用是指防止感光材料在保存过程中由于药膜中残留药液的作用而引起的暗褪色、色污染及霉变等弊病。通过正常冲洗或无水洗加工最后一个工序——稳定工序，可稳定照相影像，使之不变或变化极小。能起稳定作用的浴液称稳定浴。无水加工中的稳定浴主要由pH值控制剂、铁隐蔽剂、防霉剂、坚膜剂、软水剂、有机助剂等组成。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条