1) plasmochemical technology
等离子化学工艺
2) HDP-CVD
高密度等离子体化学气相沉积工艺
1.
Starting with film deposition’s principle and combining CVD(Chemical Vapor Deposition) theory, to investigate how to deposit STI film by HDP-CVD(High Density Plasma Chemical Vapor Deposition) process.
并从薄膜的沉积原理着手,结合化学气相沉积工艺原理,研究利用高密度等离子体化学气相沉积工艺制作的浅沟槽隔离薄膜。
5) Plasma Powder Welding technology
等离子喷焊工艺
6) process,plasma etch
等离子蚀刻工艺
补充资料：等离子化学
化学化学边缘学科。研究等离子体内的各种化学反应，包括等离子体内粒子间的反应，等离子体与反应器壁以及与置于等离子体内的电极或其他材料间的反应。已渗入到许多基础理论的研究领域以及工农业生产的各个力一而，日益显示出它的重要作用。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条