1) optimized migration
最佳偏移
2) optimum offset
最佳偏移距
3) the best set angle
最佳偏移角度
4) reflection wave optimum offset technology
反射波最佳偏移距技术
5) bias for best
偏向最佳
6) optimum biasing
最佳偏置
1.
High linearity is achieved by using optimum biasing technique.
提出了一种高线性度低功耗驱动放大器的设计方法,这种设计方法采用最佳偏置(Optimum Biasing)的线性化技术提高线性度。
补充资料:创建偏移剖面
要创建偏移剖面,必须通过在“草绘器”中进行草绘以定义切口轮廓。然后,垂直于草绘平面投影此轮廓。单击 或“视图”(View)>“视图管理器”(View Manager)。“视图管理器”(View Manager) 对话框打开。单击“剖截面”(Xsec)。单击“新建”(New)。出现一个缺省的剖面名称。按 ENTER 键。“剖截面创建”(XSEC CREATE) 菜单打开。单击“偏移”(Offset)>“一侧”(One Side) 或“双侧”(Both Sides)>“完成”(Done)。“选取”(SELECT) 对话框打开。选取草绘平面,并定义查看方向和草绘方向。进入“草绘器”。选取用于尺寸标注的参照图元。草绘剖面轮廓并单击 退出“草绘器”。 在“视图管理器”(View Manager) 中,单击“显示”(Display)>“设置可见性”(Set Visible)。“可见性”(Visibility) 对话框打开。单击“显示剖面线”(Show X-Hatching) 查看剖面。单击 预览或单击 接受选取的选项。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条