1) cylindrical carving apparatus
圆柱面刻字装置
2) circular planing attachment
圆柱面刨削装置
3) surface etching apparatus
表面刻蚀装置
4) surface calibration facility
地面刻度装置
5) Columned induction heating equipment
圆柱形感应透热装置
6) helical drive unit
圆柱齿轮传动装置
1.
With its latest SE 380 helical drive unit, Voith Turbo has succeeded not only in meeting such demands but even in exceeding them.
VoithTurbo公司专项开发了SE380圆柱齿轮传动装置。
补充资料:电化学刻蚀
分子式:
CAS号:
性质:也称电解浸蚀。在一定的电解液中,采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多,例如在印刷电路板的制作中,通过如下反应:Cu→Cu2++2e-(阳极) ;2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中,对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2,FeCl3,H2CrO4,NH4Cl,H2O2-H2SO4等。
CAS号:
性质:也称电解浸蚀。在一定的电解液中,采用电化学原理选择性地除去某种金属(或半导体)的过程。可外加电压(为电刷镀的逆过程)或不外加电压(化学刻蚀)。影响电化学蚀刻的因素有电场强度和频率、探测器厚度、蚀刻液浓度和径迹倾角等。化学刻蚀法使用较多,例如在印刷电路板的制作中,通过如下反应:Cu→Cu2++2e-(阳极) ;2Fe3++2e-→2Fe2+(阴极)。按预作保护的图样除去绝缘基板上的铜覆盖层。在微电子装置的制作中,对半导体(如硅)选择性地刻蚀是关键步骤。常用的刻蚀剂有CuCl2,FeCl3,H2CrO4,NH4Cl,H2O2-H2SO4等。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条