1) near uv resist
近紫外线抗蚀剂
2) deep uv resist
远紫外线灵敏抗蚀剂
3) UV photoresist
紫外光致抗蚀剂
1.
So,the article introduces several important UV photoresists and their development in recent years.
本文介绍了近年来几种主要的紫外光致抗蚀剂及其研究进展,对ArF激基体激光(193nm)光致抗蚀剂的各个组分进行了归纳综述。
4) anti-UV finishing
抗紫外线辐射剂
5) UV-synergist
抗紫外线增效剂
6) antiultraviolet-ray finishing agent
抗紫外线整理剂
补充资料：深紫外光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
CAS号：
性质：利用波长为200～300nm的深紫外线进行光刻的抗蚀剂，由于波长短，可减少衍射效应，深紫色光刻的分辨率可达0.5μm，但实际分辨率约为1～1.5μm。说来利用辐射化学原理的电子束或X射线抗蚀剂均可用作深紫外抗蚀剂。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条