1) focused ion beam lithography
聚焦离子束光刻
2) focused ion beam etching
聚焦离子束刻蚀
3) focused ion beam
聚焦离子束
1.
Research of voltage s stability in 0.2μm focused ion beam system;
0.2μm聚焦离子束系统中电源稳定度的研究
2.
The Pattern Generator in Focused Ion Beam Equipment;
聚焦离子束装置中的图形发生器
3.
The Workpiece-Stage and Control System in Focused Ion Beam Equipment;
聚焦离子束装置中的工件台及控制系统
4) FIB
[英][fɪb] [美][fɪb]
聚焦离子束
1.
Application of FIB in micro/nano processing technology;
聚焦离子束技术及其在微纳加工技术中的应用
2.
The Application and Case Study of FIB System in the IC Failure Analysis;
聚焦离子束在集成电路失效分析中的应用和实例分析
3.
The application of focused ion beam(FIB)technology in microfabrication has become increasingly popular.
聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台。
5) focusing of ion beam
离子束聚焦
6) Dual beam-focused ion beam
双束聚焦离子束
补充资料：离子束刻蚀（ion-beametching）
离子束刻蚀（ion-beametching）
离子束刻蚀，也称为离子铣，它的主要原理是当定向高能离子向固体靶撞击时，能量从入射离子转移到固体表面原子上，如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时，固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。为了保证刻蚀的均匀性，离子束密度必须均匀并且应具有相同能量。此外，系统内的压力必须足够低，以防止离子束被散射。离子束刻蚀的机构决定了这种刻蚀有好的各向异性，又因为粒子尺寸是离子或原子量级的，因而这种刻蚀也具有较高的分辨率。这种技术的主要限制是刻蚀过程引起温升，这将使光刻胶很难除掉。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条