2) sodium layers
钠原子层
3) atom layer(ML)
原子层(ML)
4) atomic scale
原子层面
6) atomic layer deposition
原子层淀积
1.
Preparing aluminum nitride thin film by atomic layer deposition
氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用
2.
Density functional theory was employed to investigate atomic layer deposition(ALD)mecha-nism of zirconia on Si(100)-2×1 surface with single and double hydroxyl groups.
用密度泛函方法研究了ZrO2在羟基预处理的Si(100)-2×1表面原子层淀积(ALD)初始反应过程的反应机理,ZrO2的ALD过程包括两个前体反应物ZrCl4和H2O交替的半反应。
3.
And atomic layer deposition(ALD) has become more and more popular due to its precise thickness control in film deposition.
而原子层淀积(ALD)工艺由于其精确的厚度控制,在high-k栅介质的集成工艺上受到了广泛关注。
补充资料：原子层沉积
原子层沉积
原子层沉积(atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。