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1)  pre-arcing time
预击穿时间
2)  zero time breakdown
零时间击穿
1.
It is found that annealing in N 2O can considerably improve the zero time breakdown characteristics of the thin gate oxide.
实验发现 ,N2 O气氛氮化 H2 -O2 合成法制备的薄栅介质能够有效地提高栅介质的零时间击穿特性 。
3)  pre bombarding time
预轰击时间
4)  Breakdown time delay
击穿时间延迟
5)  time to impulse flahsover
脉冲击穿时间
6)  VTB (voltage time to breakdown)
击穿电压时间
补充资料:预调时间
分子式:
CAS号:

性质:在比例微分作用(PD作用)的单元中,输入变量给定为斜坡状(等速)变化,输出变量变化达到斜坡施加后,立即得到的变化值的两倍时所需时间。

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