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1)  interstitial vacancy defect
填隙空位缺陷
2)  interstitial defect
填隙缺陷
3)  interstitial vacancy defect
间隙空位缺陷
4)  interstitial defect
填隙缺陷<光>
5)  interstitial imperfection
填隙式缺陷
6)  vacancy defect
空位缺陷
1.
Effect of three kinds of Fe vacancy defects on magnetic and electric properties of Fe_3F_4 is calculated by using the first principal potentials.
采用第一性原理赝势法计算了3种Fe空位缺陷对Fe3F4磁电性能(能态密度、电荷分布、分子磁矩等)的影响,并利用配位场理论分析了3种空位缺陷影响Fe3F4磁电性能的微观机理。
2.
To investigate the dislocation motion characteristics in low-temperature(LT) buffer during the growing process of lattice mismatched heterostructure,a 60° dislocation dipole and 5 types of ring-shaped hexagonal vacancy defects with their different relative positions to the dislocation are modeled in a Si crystal via molecular dynamics simulation.
为了研究晶格常数不匹配的异质结结构(Si1-xGex/Si)在生长过程中低温缓冲层内的位错运动特性,在Si晶体中建立了60°位错偶极子,以及相对于位错不同空间位置的5种六边形环状空位缺陷模型。
3.
In addition,how the motion of screw dislocation is affected by a vacancy defect is investigated.
在此基础上进一步研究晶体内的空位缺陷对螺位错运动的影响。
补充资料:空位缺陷
分子式:
CAS号:

性质:晶体中的原子或离子离开格位后所留下的空格位称做空位缺陷,用V(vacancy的字首)表示空位缺陷。如氟化钙(CaF2)中氟离子空位表示成VF·,V表示是空位缺陷,右下角的符号F表示空位缺陷位于氟离子格位,右上角符号表示空位缺陷带有一个正有效电荷。

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参考词条