1) activated chemical vapor deposition process
激活化学汽相沉积法<光>
2) plasma-activated chemical vapor deposition process
等离子激活化学汽相沉积法<光>
3) plasma-activated chemical vapor deposition
等离子激活化学汽相沉积<光>
4) LICVD
激光诱导化学汽相沉积
1.
Effect of technologic parameters on particle diameters of nano-Si produced by LICVD;
制备参数和退火对激光诱导化学汽相沉积合成纳米硅的粒径和红外光谱的影响
5) chemical vapor deposition process
化学汽相沉积法<光>
6) laser induced chemical vapor depostion method
激光化学气相沉积法
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条