1) ultrapure
[,ʌltrə'pjuə]
超高纯的
2) high purity ultrafine
高纯超细
1.
The crystal phase,particle size and morphology of the high purity ultrafine α-Al2O3 are characterized by XRD and SEM.
以AlCl3·6H2O和NH4HCO3为原料,室温固相反应法制备高纯超细α-Al2O3,用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对产物的组成、大小和形貌进行了表征,研究了加入聚乙二醇(PEG-10000)作为分散剂对产物的影响。
3) ultra-pure
超高纯
1.
The production technics and refining process flow of iron oxide are introduced on the basis of the demands and domestic production level of ultra-pure iron oxide.
根据国内市场对超高纯氧化铁红的需求及目前国内氧化铁红的生产水平,简要介绍了氧化铁红的生产工艺流程及氧化铁红的精制工艺流程;对氧化铁精制工艺的水洗、压滤、研磨等作一初步的试验分析;并将试验铁红与宝钢高纯铁红、韩国EG-6铁红、日本NKK-SH铁红进行简单的应用对比。
4) ultrahigh pure copper
超高纯铜
1.
Several methods for refining ultrahigh pure copper are introduced with their industrial applications given.
简要介绍了超高纯铜(UHPC)的几种精炼方法,以及它在工业方面的应用,并对超高纯铜的研究开发趋势及应用前景进行了展望。
5) ultra-hihg-pure
超高纯度
6) Ultra High Pure lron
超高纯铁
补充资料：超高纯试剂
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：主要用于电子工业，如电子计算机、光纤通信、卫星通信等。品种有三类。（1）光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。（2）MOS试剂，MOS是金属氧化物半导体用化学试剂的简称。最大杂质极限要达到10-10甚至10-19以下，所含微粒要控制到符合美国材料试验学会（ASTM）和美国宇航局（NASA）标准0级-00级。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。（3）激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。光导纤维通信是近年来发展起来的新型通信技术。它与铜缆相比，具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10-9级。
分子量：
CAS号：
性质：主要用于电子工业，如电子计算机、光纤通信、卫星通信等。品种有三类。（1）光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。（2）MOS试剂，MOS是金属氧化物半导体用化学试剂的简称。最大杂质极限要达到10-10甚至10-19以下，所含微粒要控制到符合美国材料试验学会（ASTM）和美国宇航局（NASA）标准0级-00级。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。（3）激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。光导纤维通信是近年来发展起来的新型通信技术。它与铜缆相比，具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10-9级。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条