1) minimum exposure energy
最小曝光量
2) minimal exposure dose
最小曝光剂量
1.
On the base of the measurement of optical performance and the minimal exposure dose,we study its photolithography process.
通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力。
3) optimum exposure energy
最佳曝光量
4) MPE(maximum permissible exposure)
最大允许曝光量
5) minimum light-absorption
最小受光量
6) exposure
[英][ɪk'spəʊʒə(r)] [美][ɪk'spoʒɚ]
(1)曝光(2)曝光量
补充资料：最小曝光量
分子式：
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
CAS号：
性质：完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条