1) tin oxide film
氧化锡膜
3) SnO2 films
二氧化锡膜
4) tin-based oxides thin film
锡基氧化物薄膜
1.
Preparation of tin-based oxides thin films and its' electrochemical properties;
锡基氧化物薄膜的制备与电化学性能
5) indium tin oxide film
氧化铟锡薄膜
1.
The foreground of applying indium tin oxide film to heat-insulating and energy\|saving in glass field has been analysed.
分析了氧化铟锡薄膜应用于玻璃领域隔热节能的前景。
2.
The design principles of indium tin oxide film(ITO) to prevent lectrostatic discharge for optical solar reflector(OSR) are studied.
研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则 。
6) indium tin oxide films
铟锡氧化物膜
补充资料：氧化锡膜
分子式：
CAS号：
性质：组成为氧化锡的薄膜。特点为高导电性，在可见光波段有良好的透光性，较高的红外反射率和紫外吸收性。氧化锡膜常用热解化学气相沉积(TCVD)或反应磁控溅射法制备。主要用于：(1)透明电极，用于光电元件、太阳能电池、场致发光元件和显示器件；(2)电阻器；(3)既透光又能反射红外的窗玻璃节能膜；(4)汽车防霜玻璃。与氧化锡类似的透明导电膜还有ITO膜，由80％In2O3和20％SnO2组成，通常用磁控溅射或射频反应溅射制备。
CAS号：
性质：组成为氧化锡的薄膜。特点为高导电性，在可见光波段有良好的透光性，较高的红外反射率和紫外吸收性。氧化锡膜常用热解化学气相沉积(TCVD)或反应磁控溅射法制备。主要用于：(1)透明电极，用于光电元件、太阳能电池、场致发光元件和显示器件；(2)电阻器；(3)既透光又能反射红外的窗玻璃节能膜；(4)汽车防霜玻璃。与氧化锡类似的透明导电膜还有ITO膜，由80％In2O3和20％SnO2组成，通常用磁控溅射或射频反应溅射制备。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条