1) tantalum pentafluoride
五氟化钽
2) tantalic fluoride,tantalum fluoride,tantalum pentafluoride
五氟化钽<冶>
3) electronic grade tantalum pentafluoride
电子级五氟化钽
4) Tantalum pentachloride
五氯化钽
5) tantalum halide
五卤化钽
1.
The effects for the choice of tantalum halide and Ta-containing metallorganic compound on the CVD process have been illustrated.
从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展方向作了简要的展望。
6) tantalum pentaiodide
五碘化钽
补充资料：五氟化钽
分子式：TaF5
CAS号：
性质：白色结晶。折光能力强。相对密度4.74。熔点96.8℃。沸点229.5℃。稍溶于热的二硫化碳和四氯化碳溶液中，溶于水和乙醚生成氟氧络合离子TaOF52-和氟化氢，亦溶于氢氟酸、硝酸、发烟硝酸。在空气中吸湿而不水解。能缓慢腐蚀玻璃。氟化金属钽制得。也可由五氯化钽和无水氟化氢作用制得。用作傅-克反应的催化剂。用于生产电容器，也用于化学气相沉积。钽粉直接氟化可制取纯度大于99％的产品。在微电子工业中用作气相淀积硅化钽或钽，以制作低电阻高熔点的互连线。
CAS号：
性质：白色结晶。折光能力强。相对密度4.74。熔点96.8℃。沸点229.5℃。稍溶于热的二硫化碳和四氯化碳溶液中，溶于水和乙醚生成氟氧络合离子TaOF52-和氟化氢，亦溶于氢氟酸、硝酸、发烟硝酸。在空气中吸湿而不水解。能缓慢腐蚀玻璃。氟化金属钽制得。也可由五氯化钽和无水氟化氢作用制得。用作傅-克反应的催化剂。用于生产电容器，也用于化学气相沉积。钽粉直接氟化可制取纯度大于99％的产品。在微电子工业中用作气相淀积硅化钽或钽，以制作低电阻高熔点的互连线。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条