1) tantalum pentaiodide
五碘化钽
2) Tantalum pentachloride
五氯化钽
3) tantalum halide
五卤化钽
1.
The effects for the choice of tantalum halide and Ta-containing metallorganic compound on the CVD process have been illustrated.
从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展方向作了简要的展望。
4) tantalum pentafluoride
五氟化钽
5) tantalum pentabromide
五溴化钽
6) tantalic chloride
五氧化钽
补充资料：五碘化钽
分子式：TaI5
CAS号：
性质：黑色粉末。斜方晶结构，晶格常数a=0.665nm。容易气化，蒸气压随温度增高而迅速上升。稳定性最差的钽化合物之一。在空气中吸潮水解成五氧化二钽。高温时易分解为金属钽和元素碘。由五氯化钽和四碘化硅或六碘化二铅反应制取，或在1300～1500℃时由金属钽和碘蒸气反应制取。利用易升华、易分解的性质用以制取高纯度钽。
CAS号：
性质：黑色粉末。斜方晶结构，晶格常数a=0.665nm。容易气化，蒸气压随温度增高而迅速上升。稳定性最差的钽化合物之一。在空气中吸潮水解成五氧化二钽。高温时易分解为金属钽和元素碘。由五氯化钽和四碘化硅或六碘化二铅反应制取，或在1300～1500℃时由金属钽和碘蒸气反应制取。利用易升华、易分解的性质用以制取高纯度钽。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条