1) hafnium nitride HfN
氮化铪
2) HfTiON
氮化氧化钛铪
3) HfOxNy thin films
氮氧化铪薄膜
1.
HfOxNy thin films were deposited by radio frequency reactive magnetron sputtering onto multi-spectral ZnS substrates at different oxygen partial pressure.
用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。
2.
HfOxNy thin films were deposited by RF reactive magnetron sputtering on multi-spectral ZnS substrates at different oxygen partial pressure.
采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。
4) HfON protective films
氮氧化铪保护膜
5) HfO_2
氧化铪
1.
The investigation of laser-induce damage threshold of HfO_2 films prepared with oxygen ion beam assisted deposition;
氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究
2.
Preparation of high-quality HfO_2 thin films on SOI materials;
在SOI材料上制备高质量的氧化铪薄膜
3.
Preparation of the UV Grade HfO_2
紫外级氧化铪的生产工艺研究
6) hafnium carbide phase
碳化铪相
补充资料：氮化铪
分子式：
CAS号：
性质：灰色粉末，立方晶结构。熔点3310℃，显微硬度16GPa。相当稳定，但易为王水、浓硫酸、氟氢酸所腐蚀。由铪和氮在900℃直接反应生成，或由铪卤化物和氨或氮和氢混合气体反应制取。为重要难熔化合物铪合金的重要组分。
CAS号：
性质：灰色粉末，立方晶结构。熔点3310℃，显微硬度16GPa。相当稳定，但易为王水、浓硫酸、氟氢酸所腐蚀。由铪和氮在900℃直接反应生成，或由铪卤化物和氨或氮和氢混合气体反应制取。为重要难熔化合物铪合金的重要组分。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条