1) high-purity tetramethyltin
高纯四甲基锡
2) high-purity tetraethyltin
高纯四乙基锡
3) high-purity tetramethylgermanium
高纯四甲基锗
4) tetramethyltin
四甲基锡
1.
The grafting reactions of tetramethyltin on the surface of zeolite molecular sieves(HY,Hβ,HZSM-5,MCM-41) with different composition were studied under vacuum conditions.
在真空条件下考察了几种典型沸石分子筛(HY、Hβ、HZSM-5、MCM-41)的洁净表面与四甲基锡化合物的化学反应性能。
5) tetratolyltin
四甲苯基锡
6) tetramethylstannane
四甲基锡烷
补充资料：高纯四甲基锡
分子式：(CH3)4Sn
CAS号：
性质：熔点-53℃。沸点78℃。密度1.315g/cm3。纯度≥99.999％。在18～78.9℃范围内蒸气压方程lgp(mmHg)=7.495-1620/T(T为热力学温度，K；1mmHg=133.3Pa)。采用精密精馏法和分子蒸馏法提纯。它是热力学稳定的可燃液体。用于制备氧化锡导电薄膜的锡源，作III～V族半导体，尤其是GaAs的n型掺杂源。
CAS号：
性质：熔点-53℃。沸点78℃。密度1.315g/cm3。纯度≥99.999％。在18～78.9℃范围内蒸气压方程lgp(mmHg)=7.495-1620/T(T为热力学温度，K；1mmHg=133.3Pa)。采用精密精馏法和分子蒸馏法提纯。它是热力学稳定的可燃液体。用于制备氧化锡导电薄膜的锡源，作III～V族半导体，尤其是GaAs的n型掺杂源。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条