1) sputtering phenomenon
溅射现象
2) splash phenomenon
溅水现象
3) reflection effect
反射现象
1.
We find that there is a "reflection effect" in the evaluation of service quality.
论文研究顾客满意度评价的不确定性对服务质量总体评价的影响,结果表明在服务质量的评价中存在着一种“反射现象”,即当服务质量总体水平处于满意的状态下,管理者追求的是保持和稳定,展现出对不确定性的厌恶;而当服务质量总体水平处于不满意的状态时,管理者力图改变和进步,展现出对不确定性的偏爱,而且,顾客满意度评价的负面结果要比同等程度的正面结果对服务质量总体评价的影响要大。
2.
We find that there is a “reflection effect” in the evaluation of service quality.
本文研究顾客满意度评价的不确定性对服务质量总体评价的影响,结果表明在服务质量的评价中存在着一种“反射现象”,即当服务质量总体水平处于满意的状态下,管理者追求的是保持和稳定,展现出对不确定性的厌恶;而当服务质量总体水平处于不满意的状态时,管理者力图的是改变和进步,展现出对不确定性的偏爱,而且,顾客满意度评价的负面结果要比同等程度的正面结果对服务质量总体评价的影响要大。
补充资料：溅射现象
分子式：
CAS号：
性质： 用具有一定能量的离子束或中性原子束轰击固体，会引起固体表面分子、原子或原子团的次级发射的现象。溅射出的粒子多为中性粒子或分子，少部分为带正、负电荷的离子，称为次级离子。描述溅射现象的主要参量是溅射阀能、溅射产率和溅射速度。溅射阀能定义为：开始出现溅射时初级离子的能量。对普通金属而言，溅射阀能约为10～30eV。溅射产率定义为：一个一次离子所溅射出的二次粒子(中性粒子和次级离子)的总数。溅射速度定义为：单位时间溅射的深度。溅射主要用于固体表面分析和进行深度剖面分析。如在二次离子质谱法(SIMS)中提供次级离子或在溅射中性粒子质谱法(SNMS)中提供中性粒子。也常用于清洁固体表面。
CAS号：
性质： 用具有一定能量的离子束或中性原子束轰击固体，会引起固体表面分子、原子或原子团的次级发射的现象。溅射出的粒子多为中性粒子或分子，少部分为带正、负电荷的离子，称为次级离子。描述溅射现象的主要参量是溅射阀能、溅射产率和溅射速度。溅射阀能定义为：开始出现溅射时初级离子的能量。对普通金属而言，溅射阀能约为10～30eV。溅射产率定义为：一个一次离子所溅射出的二次粒子(中性粒子和次级离子)的总数。溅射速度定义为：单位时间溅射的深度。溅射主要用于固体表面分析和进行深度剖面分析。如在二次离子质谱法(SIMS)中提供次级离子或在溅射中性粒子质谱法(SNMS)中提供中性粒子。也常用于清洁固体表面。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条