1) flat-plate/cavity model
平板空腔模型
2) plane cavity
平行板空腔
1.
The energy deposited in a plane cavity is calculated by Monte Carlo technique, which is achieved by EGS4 program code.
应用ＥＧＳ４电子输运的蒙特卡罗程序，计算了在平行板空腔中均匀分布电子源的电子在不同壁材料空腔中沉积的能量，并与由电子输运球谐近似计算的结果进行了比较， 表明在大部分情况下二者都符合得较好；同时建立了剂量学研究中重要的基础数据库。
3) cavity model method
空腔模型法
1.
The cavity model method was amply detailed.
详细介绍了空腔模型法,该方法是分析微带贴片天线的重要方法,适用于任何形状的贴片。
2.
Double negative metamaterials(DNG) were used as substrate in the design of a new type of microstrip antenna with cavity model method.
采用空腔模型法设计了以双负材料(ε、μ为负值)为介质衬底的新型微带天线。
4) loose cavity plate
带空腔活动模板
5) Plate model
平板模型
1.
In lab experiment of oil-water displacement with plate model,a cube of 3 cm×3 cm×30 cm as the calibration sample and a plate of 30 cm×30 cm×4 cm as the measurement sample are cut from a same sandstone rock.
在平板模型油水驱替实验中,从同一块砂岩中切割下3 cm×3 cm×30 cm的长方体作为砂岩标定样品,30cm×30 cm×4 cm的平板作为砂岩平板模型测量样品,经NaCl溶液浓度校正和CT扫描图像计算的饱和度值标定,由测量样品的电阻测量值就可以间接计算出它的含水饱和度。
6) Slab model
平板模型
1.
Studies on Resistive Wall Instability Driven by Plasma Flow in a Slab Model;
平板模型中流驱动电阻壁不稳定性的研究
2.
In this thesis, based on the first principle quantum mechinism calculations, the adsorption and dissociation of methane on Ni?based catalysts have been systemically investigated by DFT?GGA method and periodical slab model.
本文在第一原理量子力学计算基础上,运用DFT?GGA方法和平板模型,对甲烷在Ni基催化剂上的分解及表面预吸附氧原子对该反应的影响进行了研究,同时也对甲烷在金属Mo(100), Cu(100), Ag(100), Pt(100)和Au(100)表面的吸附分解进行了比较研究。
3.
The reaction pathway of C–H bond breaking of methane on the clean Pd(111) and O-modified Pd(111) surfaces was investigated by the first-principles density functional theory generalized gradient approximation calculations with the slab model.
采用广义梯度近似(GGA)的密度泛函理论(DFT)并结合平板模型,研究了CH4在清洁Pd(111)及O改性的Pd(111)表面发生C–H键断裂的反应历程。
补充资料：空腔
分子式：
CAS号：
性质：(一)用于产生黑体辐射的实验室装置。通常作为与红外辐射光源进行比较的标准。由闭合金属管内部涂黑组成，在管的一端平板上开一个窄缝，当管子被加热时，由狭缝射出的辐射，从实际上和理论上均与预期的黑体辐射相同。(二)在掩模版安装保护膜工艺中，在被安装的保护膜框架面积内，光掩模板与光学透明薄膜之间的未填充空间。
CAS号：
性质：(一)用于产生黑体辐射的实验室装置。通常作为与红外辐射光源进行比较的标准。由闭合金属管内部涂黑组成，在管的一端平板上开一个窄缝，当管子被加热时，由狭缝射出的辐射，从实际上和理论上均与预期的黑体辐射相同。(二)在掩模版安装保护膜工艺中，在被安装的保护膜框架面积内，光掩模板与光学透明薄膜之间的未填充空间。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条