说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 掺杂二氧化锡薄膜
1)  doped tin oxide thin film
掺杂二氧化锡薄膜
2)  antimony-doped tin dioxide thin film
锑掺杂二氧化锡薄膜
3)  antimony-doped tin oxide film
锑掺杂氧化锡薄膜
4)  tin_doped indium oxide film
锡掺杂氧化铟薄膜
5)  tin-doped silica film
掺锡二氧化硅玻璃薄膜
6)  ITO thin film
掺锡氧化铟薄膜
补充资料:银-氧化锡-氧化铟
分子式:
CAS号:

性质:银基含氧化锡(SnO2)和三氧化二铟(In2O3)的复合电接触材料,抗熔焊性和耐磨性能均良好。In2O3可改善电接触性能。如Ag-8SnO2-15In2O3的密度9.85~10.4g/cm3。布氏硬度785~1176.8MPa。电阻系数3.00~3.50×10-2Ω·mm2/m。用内氧化法制造。优良的中等负荷电接触材料,作断开电接点。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条