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1)  Ge-SiO_2 nanometer thin films
Ge-SiO_2纳米薄膜
1.
As far as the luminescent character was concerned, the preparation methods, factors affecting the luminescent character and the luminescent mechanics of Ge-SiO_2 nanometer thin films are summarized.
本文针对Ge-SiO_2纳米半导体颗粒膜的发光特性,对Ge-SiO_2纳米薄膜的制备技术、影响其发光特性的因素及其发光机理的新的研究进展进行了综述。
2)  nanocrystalline Ge thin films
纳米Ge薄膜
3)  Ge nano-films
Ge纳米薄膜
1.
Observation on surface morphology of Ge nano-films grown by ion beam sputtering
离子束溅射生长Ge纳米薄膜的表面形貌观察
4)  Ge-SiO_2 thin films
Ge-SiO_2薄膜
1.
Ge-SiO_2 thin films were prepared by a RF co-sputtering technique on p-Si substrates.
用射频磁控溅射制备了Ge-SiO_2薄膜。
5)  nano-structured SiO_2 thin film
纳米SiO_2薄膜
6)  Nanoporous silica film
纳米多孔SiO_2薄膜
1.
The relationship between the porosity and the dielectric constant of nanoporous silica film were re-viewed.
纳米多孔SiO_2薄膜具有超低的介电常数,作为绝缘介质在超大规模集成电路互连系统有着巨大的应用潜力。
补充资料:看纺织印染中应用纳米材料和纳米技术

纺织印染中应用纳米材料和纳米技术时,除了要解决纳米材料的制备技术之外,重要的是要解决好纳米材料的应用技术,其中关键问题是使纳米粒子和纺织印染材料的基本成分(即聚合物材料)之间处于适当的结合状态。印染中,纳米粒子在聚合物基体中的分散和纳米粒子在聚合物表面的结合是主要的应用技术问题。  


    制备聚合物/无机纳米复合材料的直接分散法,适用于各种形态的纳米粒子。印染中纳米粒子的使用一般采用直接分散法。但是由于纳米粒子存在很大的界面自由能,粒子极易自发团聚,利用常规的共混方法不能消除无机纳米粒子与聚合物基体之间的高界面能差。因此,要将无机纳米粒子直接分散于有机基质中制备聚合物纳米复合材料,必须通过必要的化学预分散和物理机械分散打开纳米粒子团聚体,将其均匀分散到聚合物基体材料中并与基体材料有良好的亲和性。直接分散法可通过以下途径完成分散和复合过程:  


    高分子溶液(或乳液)共混:首先将聚合物基体溶解于适当的溶剂中制成溶液(或乳液),然后加入无机纳米粒子,利用超声波分散或其他方法将纳米粒子均匀分散在溶液(或乳液)中。有人将环氧树脂溶于丙酮后加入经偶联剂处理过的纳米TiO2,搅拌均匀,再加入 40wt%的聚酰胺后固化制得了环氧树脂/TiO2纳米复合材料。还有人将纳米SiO2粒子用硅烷偶联剂处理后,改性不饱和聚酯。  


    熔融共混:将纳米无机粒子与聚合物基体在密炼机、双螺杆等混炼机械上熔融共混。如将PMMA和纳米SiO2粒子熔融共混后,双螺杆造粒制得纳米复合材料。又如利用偶联剂超声作用下处理纳米载银无机抗菌剂粒子,分散制得PP/抗菌剂、PET/抗菌剂、PA/抗菌剂等复合树脂,然后经熔融纺丝工艺加工成抗菌纤维。研究表明,将经过表面处理的纳米抗菌剂粒子通过双螺杆挤出机熔融混炼,在聚合物中可以达到纳米尺度分散,获得了具有良好综合性能的纳米抗菌纤维,对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的抗菌率达到95%以上(美国AATCC-100标准)。  


    机械共混:将偶联剂稀释后与碳纳米管混合,再与超高分子量聚乙烯(UHMWPE)混合放入三头研磨机中研磨两小时以上。将研磨混合物放入模具,热压,制得功能型纳米复合材料。  


    聚合法:利用纳米SiO2粒子填充(Poly(HEMA))制备了纳米复合材料。纳米SiO2粒子首先被羟乙基甲基丙烯酸(HEMA)功能化,然后与HEMA单体在悬浮体系中聚合。还有利用SiO2胶体表面带酸性,加入碱性单体4-乙烯基吡咯进行自由基聚合制得包覆型纳米复合材料。

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参考词条